某半导体材料打造品牌因晶圆刷洗加工过程行成含氨生活污水，储水量200吨/天。生活污硫酸铜溶液除氧化还原电位外还含氟化物和进样器巨资属，净化处理难易大。是时间污染物标准的要求氧化还原电位＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 生活污水基本成分及收入 晶圆擦洗废水处理工艺（通常源于）：含氯离子200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀生产工序废渣：含微量分析铜、镍等巨资属，pH值振幅大 CMP精磨废渣：含硅粒子及氧化还原电位 正确处理新工艺标准流程 选择"生物沉定+膜分离出来+折点氯化"组合起来工艺流程： 预清理 ：加药系统CaCl2除氟，的控制pH在7.5-8. 超滤膜体统 ：删去0.01μm之内粉末物 反加入浓缩提炼 ：将氟化物沉淀至1000mg/L超过 折点氯化 ：精确性把控好氯添加量，将氧化还原电位应用为氦气 阴阳离子交流 ：安全保障血本属及格 以后功能 氟化物稳定性＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 血本属含磷量不高于检侧限 水造纸废水处理率达75% 工业废水所产生量削减40%